銅合金靶材生產(chǎn)廠家 

概述：銅靶材用途：適用于直流二極濺射、三極濺射、四級濺射、射頻濺射、對向靶濺射、離子束濺射、磁控濺射等，可鍍制反光膜、導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體薄膜、電容器薄膜、裝飾膜、保護(hù)膜、集成電路、顯示器等，相對其它靶
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刷新時(shí)間：
2020-11-04 15:47:37 點(diǎn)擊21262次
服務(wù)區(qū)域：
北京/房山/拱辰街道
價(jià)格：
  • 100 元/千克
聯(lián)系電話：
18501292930 李小姐
信用：4.0  隱性收費(fèi)：4.0
描述：4.0  產(chǎn)品質(zhì)量：4.0
物流：4.0  服務(wù)態(tài)度：4.0
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Cu銅合金靶材：銅靶材是真空鍍膜行業(yè)濺射靶材中的一種，是高純銅材料經(jīng)過系列加工后的產(chǎn)品，具有特定的尺寸和形狀高純銅材料。由于高純銅特別是超高純銅具有許多優(yōu)良的特性，已廣泛應(yīng)用于電子、通信、超導(dǎo)、航天等尖端領(lǐng)域。

名稱

密度

色澤

熔點(diǎn)

沸點(diǎn)

銅靶材

8.92g/cm3

紫紅色

1083.4℃

2567℃

常用純度

99.9%3N，99.99%4N，99.999%5N，99.9999%6N

銅靶材用途：適用于直流二極濺射、三極濺射、四級濺射、射頻濺射、對向靶濺射、離子束濺射、磁控濺射等，可鍍制反光膜、導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體薄膜、電容器薄膜、裝飾膜、保護(hù)膜、集成電路、顯示器等，相對其它靶材，銅靶材的價(jià)格較低，所以銅靶材是在能滿足膜層的功能前提下的首選靶材料。

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