真空鍍膜系統(tǒng) 

真空鍍膜系統(tǒng)

降低真空系統(tǒng)漏氣率的措施：

1.真空系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)

真空系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)是影響真空系統(tǒng)密封性和系統(tǒng)漏氣率的關(guān)鍵，真空系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)合理與否，將直接影響系統(tǒng)的密封性和系統(tǒng)的漏氣率。

（1）盡可能地避免出現(xiàn)小曲率半徑的死角，要光滑過渡查剎于打麈拋光、清洗清掃。

（2）抽空管道、送氣管道等與真空室相連接的管道，采用圓弧過渡，使氣路暢通無阻，但要考慮清洗清掃的方便性。

（3）認(rèn)真設(shè)計真空室內(nèi)各種連接件的結(jié)構(gòu)，使氣路暢通，避免氣路堵塞。

（4）打磨拋光真空系統(tǒng)內(nèi)表面，表面越光亮就越不易氣體吸附，越容易獲得真空。

（5）盡可能減小真空室的體積，縮短管路系統(tǒng)。

2.密封形式的選擇

密封形式可根據(jù) 所需真空度的高低及實際工作需要選擇密封形式，對于人工晶體生長設(shè)備，一般需要的真空度在lO-3Pa以下，因此，無需采用金屬密封。以TDR--70型單晶爐為例，我們選擇磁性流體密封作為旋轉(zhuǎn)動密封，選擇高精度大伸縮量的焊接波紋管進(jìn)行移動密封，小直徑軸的旋轉(zhuǎn)密封選用“O”型密封圈或威爾遜密封，各種靜密封則采用“0”型密封圈密封形式，直徑壓縮比為25％。

真空鍍膜系統(tǒng)

真空系統(tǒng)的產(chǎn)品特性：

1.真空度高、性能穩(wěn)定、壽命長

2.流量：4-1300m3/hr（單臺泵）

3.真空使用范圍：0.5-500mbar（絕對壓力）

4.無需接入水源

5.結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積少

6.操作簡單維護(hù)方便，噪音少

7.可實現(xiàn)多臺機(jī)組PLC聯(lián)控

8.可連接GDMS系統(tǒng)

9.符合歐洲CE EN737-3標(biāo)準(zhǔn)

真空系統(tǒng)性能特點：

該裝置自第一次啟動后，全部運行過程可以實現(xiàn)全自動控制。其工作中，真空系統(tǒng)內(nèi)各處的真空度始終在其允許范圍內(nèi)上下波動，其波動范圍可根據(jù)用戶要求進(jìn)行調(diào)整。第一臺啟動達(dá)不到真空時第二臺啟動至達(dá)到設(shè)定的真空值當(dāng)達(dá)到后第一臺停再第二臺停循環(huán)工作，該裝置在無人操作情況下對系統(tǒng)進(jìn)行自動控制，在停電時可自動封閉真空系統(tǒng)。同時控制箱可以保護(hù)真空泵馬達(dá)過載及短路。

真空鍍膜系統(tǒng)

普諾克真空系統(tǒng)產(chǎn)品圖