頂立科技立式化學(xué)氣相沉積爐(碳化硅)
概述:立式化學(xué)氣相沉積爐可用于以硅烷為氣源的材料表面抗氧化涂層、基體改性等。
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技術(shù)特征
采用先進(jìn)的控制技術(shù),能精密控制MTS的流量和壓力,爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定,壓力波動(dòng)范圍;
采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室,密封效果好,抗污染能力強(qiáng);
對(duì)沉積產(chǎn)生的高腐蝕性尾氣、易燃易爆氣體、固體粉塵及低熔點(diǎn)粘性產(chǎn)物能進(jìn)行有效處理;
采用最新設(shè)計(jì)防腐蝕真空機(jī)組,持續(xù)工作時(shí)間長(zhǎng),維修率極低。
立式化學(xué)氣相沉積爐(碳化硅)配置選擇
爐門(mén):絲杠升降/液壓升降/手動(dòng)升降;手動(dòng)鎖緊/自動(dòng)鎖圈鎖緊
爐殼:全碳鋼/內(nèi)層不銹鋼/全不銹鋼
爐膽:軟碳?xì)?軟石墨氈/硬質(zhì)復(fù)合氈/CFC
加熱器、馬弗:等靜壓石墨/模壓三高石墨/細(xì)顆粒石墨
工藝氣路系統(tǒng):體積/質(zhì)量流量計(jì);手動(dòng)閥/自動(dòng)閥;進(jìn)口/國(guó)產(chǎn)
熱電偶:C分度號(hào)/S分度號(hào)/K分度號(hào)/B分度號(hào)
記錄儀:無(wú)紙記錄儀/有紙記錄儀;進(jìn)口/國(guó)產(chǎn)

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