高真空磁控濺射鍍膜儀 真空電鍍機 集成電路電極制造 廠家直銷 

概述:廠家直銷單靶高真空磁控濺射鍍膜儀,配600升渦輪分子泵,4升雙極機械泵,油污過濾器
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工程部 陳經(jīng)理

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技術部 黃經(jīng)理

聯(lián)系電話:18551070880

型號:HM-MS200

1.腔室外尺寸:Ф250×200mm,304優(yōu)質(zhì)不銹鋼材質(zhì),帶玻璃觀察罩;內(nèi)徑:Ф200×200mm;

2.樣品臺尺寸:Ф60-100mm,高度:60~120mm可調(diào);

3.真空系統(tǒng):機械泵(0.06 Pa)+分子泵(8.0×10-6 Pa)

4.極限真空:8.0×10-6Pa;

5.真空抽速:大氣~1×10-3 Pa ≤10 min;

6.真空測量:復合真空計,測量范圍:105~10-5 Pa;

7.磁控靶:Φ50-100mm 1只,兼容直流電源和射頻電源;

8.濺射電源:500W直流濺射電源;

9.流量計一套;

10.控制方式:具備漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養(yǎng)維護提示等功能;

11.設備外形:L60cm×W60cm×H96cm機電一體化機架,預留1個KF25法蘭接口;

12.設備供電總功率≤2KW,220V,單相三線制(一火一零一地);

13.設備集成度高,可以直接放置于實驗桌面上,需要拆卸的部分采用即插即用的方式,接線及安裝調(diào)試便捷簡單;

14.設備整機可置于手套箱內(nèi),水、電、氣等通過KF40接口接到手套箱外,與手套箱的對接靈活方便;

15.靶頭水冷:有

16.樣品臺水冷:有




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